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光学大厂参展 P&E徕卡/施耐德展台直击

  2011年CHINA P&E于4月21日在北京国家会议中心举行,中国国际照相机械影像器材与技术博览会(CHINA P&E)创办于1998年每年一届,展期一般为四天,近届展出面积15000平方米。已成为国内外公认的亚洲最具权威的摄影器材博览会,为世界三大国际影像展之一。展出内容:各类照相机(普通、专业、数码)、录像机、扩印设备及相关产品;幻灯机、投影仪、打印设备及相关产品;影楼设备、影像软件、婚纱、胶片及照相、录像用多种辅助器材等。

  本届P&E当中,徕卡展台依然是以黑色搭配红色Logo的设计,显得十分大气。

  作为旗舰产品,徕卡S2几乎每个展会都会出现。

  展柜中展出的徕卡M卡口镜头,画面中的这只是50mm f/0.95。

  虽然徕卡M9不出所料的到场,但是钛合金特别版没有出现。

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